Технология физического осаждения из паровой фазы (Physical Vapor Deposition, PVD) подразумевает использование физических методов в условиях вакуума для испарения поверхности исходного материала (твердого или жидкого) в газообразные атомы или молекулы, или частичной ионизации в ионы, и пропускания через газ (или плазму) низкого давления. Процесс, представляющий собой технологию нанесения тонкой пленки со специальными функциями на поверхность подложки, и физическое осаждение из паровой фазы является одной из основных технологий обработки поверхности. Технология нанесения покрытий методом физического осаждения из паровой фазы (PVD) в основном подразделяется на три категории: нанесение покрытий методом вакуумного испарения, нанесение покрытий методом вакуумного напыления и нанесение покрытий методом ионного напыления в вакууме.
Наша продукция в основном используется для нанесения покрытий методом термического испарения и напыления. Для нанесения покрытий методом паровой фазы используются вольфрамовая проволока, вольфрамовые, молибденовые и танталовые лодочки. Для нанесения покрытий методом электронного луча используются катодная вольфрамовая проволока, медные тигли, вольфрамовые тигли и детали для обработки молибдена. Для нанесения покрытий методом напыления используются титановые, хромовые и титано-алюминиевые мишени.
