Метод электронно-лучевого испарения представляет собой своего рода вакуумно-испарительное покрытие, в котором электронные лучи используются для непосредственного нагрева испаряемого материала в условиях вакуума, испарения испаряемого материала и его транспортировки на подложку, а также конденсации на подложке с образованием тонкой пленки.В устройстве электронно-лучевого нагрева нагретое вещество помещается в тигель с водяным охлаждением, что позволяет избежать реакции между испаряющимся материалом и стенками тигля и повлиять на качество пленки.В устройстве можно разместить несколько тиглей для одновременного или раздельного испарения и осаждения различных веществ.С помощью электронно-лучевого испарения можно испарить любой материал.
Электронно-лучевое испарение позволяет испарять тугоплавкие материалы.По сравнению с обычным испарением при резистивном нагреве, он имеет более высокий тепловой КПД, более высокую плотность тока луча и более высокую скорость испарения.Пленка и пленка из различных оптических материалов, например, проводящего стекла.
Особенностью электронно-лучевого испарения является то, что оно не покрывает или редко покрывает две стороны трехмерной структуры мишени и обычно осаждается только на поверхности мишени.В этом разница между электронно-лучевым испарением и распылением.
Электронно-лучевое испарение широко используется в области исследований и промышленности полупроводников.Энергия ускоренных электронов используется для удара по материальной цели, в результате чего материальная цель испаряется и поднимается.В конце концов попал в цель.
Время публикации: 02 декабря 2022 г.